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金属硅化物

metallic silicides

多在 超大规模集成电路中使用,如用作金属栅、 肖特基接触、 欧姆接触等。

制备方法主要是用淀积金属与硅的 混合物 烧结而成。淀积法主要有: 蒸发、 溅射、 电镀、 化学气相淀积等。

金属硅化物的特性是与酸反应生成 硅烷。SiH4.

metallic silicides

多在 超大规模集成电路中使用,如用作金属栅、 肖特基接触、 欧姆接触等。

制备方法主要是用淀积金属与硅的 混合物 烧结而成。淀积法主要有: 蒸发、 溅射、 电镀、 化学气相淀积等。

金属硅化物的特性是与酸反应生成 硅烷。SiH4.


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